Leussink, Pele: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (6)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

DREM: Infinite etch selectivity and optimized scallop size distribution with conventional photoresists in an adapted multiplexed Bosch DRIE process

Chang, Bingdong, Leussink, Pele, Jensen, Flemming, Hübner, Jörg, Jansen, Henri

Журнал:

Microelectronic Engineering

Рік:

2018

Мова:

english

Файл:

PDF, 3.35 MB

english, 2018

2

Wafer-scale fabrication of nanoapertures using corner lithography

Burouni, Narges, Berenschot, Erwin, Elwenspoek, Miko, Sarajlic, Edin, Leussink, Pele, Jansen, Henri, Tas, Niels

Журнал:

Рік:

2013

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.28 MB

english, 2013

3

SPIE Proceedings [SPIE Micromachining and Microfabrication - Santa Clara, CA (Monday 18 September 2000)] Micromachined Devices and Components VI - Toward thermal flow-sensing with pL/s resolution

Tas, Niels R., Lammerink, Theo S. J., Leussink, Pele J., Berenschot, J. W., de Bree, H. E., Elwenspoek, Miko C., Peeters, Eric, Paul, Oliver

Рік:

2000

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.37 MB

english, 2000

4

The CORE Sequence: A Nanoscale Fluorocarbon-Free Silicon Plasma Etch Process Based on SF 6 /O 2 Cycles with Excellent 3D Profile Control at Room Temperature

Thi Hoang Nguyen, Vy, Silvestre, Chantal, Shi, Peixiong, Cork, Roy, Jensen, Flemming, Hubner, Jorg, Ma, Kechun, Leussink, Pele, de Boer, Meint, Jansen, Henri

Журнал:

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Рік:

2020

Файл:

PDF, 2.27 MB

2020

5

On the formation of black silicon in SF 6 -O 2 plasma: The clear, oxidize, remove, and etch (CORE) sequence and black silicon on demand

Nguyen, Vy Thi Hoang, Jensen, Flemming, HÃ¼bner, JÃ¶rg, Leussink, Pele, Jansen, Henri

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2020

Файл:

PDF, 3.20 MB

2020

6

Ultrahigh aspect ratio etching of silicon in SF 6 -O 2 plasma: The clear-oxidize-remove-etch (CORE) sequence and chromium mask

Nguyen, Vy Thi Hoang, Shkondin, Evgeniy, Jensen, Flemming, HÃ¼bner, JÃ¶rg, Leussink, Pele, Jansen, Henri

Журнал:

Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films

Рік:

2020

Файл:

PDF, 3.67 MB

2020